マイポックス、半導体12インチウェーハCMP受託加工へ本格参入、鹿沼に新ライン構築

ビジネス 万年筆 メモ

■生成AI・EV向け需要拡大に対応、次世代半導体向け高付加価値加工を推進

 マイポックス<5381>(東証スタンダード)は3月12日、12インチ(300mm)ウェーハ対応のCMP受託加工ラインの構築完了と本格参入を発表した。主力拠点の鹿沼事業所に最新鋭設備を導入し、生成AI向け半導体の高集積化やEV用パワー半導体の大口径化で拡大する需要に対応する。これまで試作開発を中心としてきた小中口径ウェーハ加工から、先端半導体分野への展開を加速する構えだ。

 新ラインでは、自社開発の研磨剤(スラリー)と受託加工を組み合わせた独自のCMPプロセスを提供する。従来対応が難しかった12インチSiC(炭化ケイ素)ウェーハの受託研磨を開始するほか、Cu(銅)ダマシン案件や接合前工程での表面粗さ改善など、高度な平坦化技術をワンストップで担う。材料開発と加工技術を組み合わせた高付加価値型モデルを打ち出す。

 今後は、2027年3月期中の稼働開始を予定する12インチ対応の接合(ボンディング)設備への投資も進める。今回のCMPラインと接合設備を連携させ、TSV(シリコン貫通電極)を活用した3次元実装の一貫受託体制を構築し、材料・加工・実装を網羅する「トータルファンドリーサービス」の確立を目指す。なお、2026年3月期の連結業績への影響は軽微としている。(情報提供:日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部)

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