キヤノンと日本シノプシス、ＮＥＤＯ採択の次世代半導体設計プロジェクトに参画
- 2026/3/4 07:55
- ＩＲ企業情報
■「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業」に採択、研究期間は原則５年
キヤノン＜７７５１＞（東証プライム）は３月３日、日本シノプシスとともにＮＥＤＯの公募事業に採択された「先端半導体技術を活用した画像処理ＳｏＣ技術開発」への参画を発表した。対象事業は「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（助成）」である。研究期間は開始時点から原則５年（６０か月）以内とする。
同プロジェクトでは、キヤノンの画像処理技術と日本シノプシスの設計技術を融合し、２ｎｍ世代の微細プロセス技術とチップレット技術を組み合わせた次世代半導体の設計技術を開発する。複数チップの高密度統合により、従来の単一チップ構成では困難だった高性能かつ低消費電力の画像処理ＳｏＣの実現を目指す。
ポスト５Ｇ時代の到来を背景に、ＩｏＴや自動運転、スマートシティ、遠隔医療などでリアルタイム画像処理需要が拡大している。両社はエッジ端末向けに高効率な画像処理とＡＩ処理を可能とする半導体プラットフォームの確立に取り組み、日本の先端半導体技術開発と産業基盤強化への貢献を図る。（情報提供：日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部）
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