■ＮＩＬ（ナノインプリントリソグラフィ）技術
キヤノン＜７７５１＞（東証プライム）は９月２７日、再び上値を指向して始まり、取引開始後は４９５４円（５９円高）をつけて約４週間前につけた２００８年以来の高値５１２１円に向けて出直っている。２６日付で、世界で初めて実用化したＮＩＬ技術を使用した半導体製造装置を米国テキサス州にある半導体コンソーシアム「Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｆｏｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ」（以下、ＴＩＥ）に同日出荷すると発表し、注目されている。ＮＹ株式市場でも値上がりし、買い安心感が広がったようだ。
発表によると、ＮＩＬ（ナノインプリントリソグラフィ）技術は、これまでの投影露光技術とは異なる方式でパターンを形成するもの。従来の投影露光装置は、ウエハー上に塗布されたレジスト（樹脂）に光を照射し回路を焼き付けるのに対し、ＮＩＬ技術を使用した半導体製造装置は、ウエハー上のレジストに回路パターンを刻み込んだマスク（型）をハンコのように押し付けて回路パターンを形成する。光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウエハー上に再現でき、低消費電力・低コストで既存の最先端ロジック半導体製造レベルの５ナノノードにあたる最小線幅１４ｎｍのパターン形成が可能という。（ＨＣ）（情報提供：日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部）
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