旭化成、AIサーバー向け微細配線形成可能な新規感光性ドライフィルム「サンフォート TAシリーズ」を開発

■半導体パッケージの微細化に対応、LDI露光で1.0μm幅パターンを実現

 旭化成<3407>(東証プライム)は5月26日、AIサーバー向け半導体パッケージ製造工程向けに新規感光性ドライフィルム「サンフォート TAシリーズ」を開発したと発表。この製品はLDI(レーザーダイレクトイメージング)露光機とStepper露光機の両方に対応し、1.0μm幅の微細パターン形成を可能にする。再配線層(RDL)形成に必要な4µmピッチデザインにおいて、従来の液状レジストに比べ取り扱いが簡便なドライフィルムながら高解像度を実現した。

 同社が開発したTAシリーズは、パネル適合性や両面同時処理などの利点を持つ感光性ドライフィルムの特性を維持しつつ、解像度の課題を克服。SAP(セミアディティブプロセス)によるめっき工程後には3µm幅の微細配線形成が可能となる。これにより、大面積・高多層化が進むインターポーザーやパッケージ基板の製造プロセスにおいて、新たな材料選択肢を提供する。

 旭化成はエレクトロニクス事業を重点成長分野と位置付けており、今回の開発でパネルレベルパッケージング技術の進展に貢献する方針だ。同社は今後も、半導体パッケージの大型化・高密度化に対応する材料技術の開発を推進していくとしている。(情報提供:日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部)

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