Rapidus、AI設計基盤「Raads」発表、2ナノ対応ツール群を2026年度から展開

■AIエージェント型半導体設計へ転換、設計期間50%短縮を目指す

 Rapidus(ラピダス)は12月17日、AIを活用した独自の設計支援コンセプト「Raads(Rapidus AI-Agentic Design Solution)」を具現化したツール群を発表した。同社が推進する新たな半導体ファウンドリ・サービス「RUMS(Rapid and Unified Manufacturing Service)」の中核を担う位置付けで、2026年度から順次リリースする。Raadsは複数の設計支援ツール群で構成され、PDK(Process Design Kit)やリファレンスフローとともに顧客に提供される。

 同社は従来構想してきた「Rapidus AI-Assisted Design Solution」を発展させ、設計者を補助する段階から、AI自体が最先端半導体デバイス設計を担うエージェントとなる「Rapidus AI-Agentic Design Solution」へ進化させる方針だ。既存のEDAツールとRaadsを組み合わせることで、設計期間を50%短縮し、設計コストを30%削減できるとしている。

■LLM活用のGeneratorとPredictorでPPAを高精度予測

 中核となるのが、LLM(大規模言語モデル)を活用した「Raads Generator」と「Raads Predictor」である。前者は設計者が半導体仕様を入力すると、同社の2ナノメートル製造プロセスに最適化されたRTL(Register Transfer Level)設計データを生成する。後者はRTLデバッグや物理設計、配置配線の最適化を行い、PPA(消費電力・性能・面積)を短期間で予測する。設計者はRTLソースコードとSDCを入力することで、同社で製造したシリコンの特性を事前に把握できる。

 今後は、設計者のQA対応や課題解決を支援する「Raads Navigator/Indicator」、階層レイアウト設計を最適化する「Raads Manager」、PPA最適化パラメータを探索する「Raads Optimizer」を順次投入する。同社は北海道・千歳市で建設中の最先端工場「IIM-1」において、2ナノメートルGAAトランジスタの試作を開始しており、対応するPDKの整備と合わせ、国内先端ロジック半導体量産に向けた設計・製造一体型の基盤構築を進める。(情報提供:日本インタビュ新聞社・株式投資情報編集部)

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